首页科技快讯国产光刻机取得突破？日媒：中国或成荷日后第三个能独立制造

国产光刻机取得突破？日媒：中国或成荷日后第三个能独立制造

来源：晰数塔互联网快讯时间：2025年12月08日 21:19

（来源：时报新征途）

　　最近，日本有媒体报道称，中国光刻机产业或将迎来实质性突破。长期以来，“没有光刻机，就没有芯片制造自主权”。而现在，这个“技术死穴”似乎正在被一点一点撬开。若这一趋势继续，很可能撼动既有的国际半导体设备格局。

　　差异化突围——不盲目跟随，而是开辟新路径

　　光刻机长期被认为是高端工艺的象征，尤其是极紫外(EUV)设备，一直被视为进入先进制程的门槛。传统看法一直是，对标ASML的顶级EUV机，才算真正意义上的“技术自主”。然而，中国并没有陷入那种单一路径的“盲目追赶”。国内一些厂商选择了更务实的道路。

　　据报道，国内某设备供应商已经交付了一款针对化合物半导体(如碳化硅、氮化镓等)的步进光刻机。这台机器虽然制程节点不算最前沿，但其兼容性和国产化率极高，恰好命中了功率器件和新能源、5G、Micro-LED等领域对成熟制程和特色制程的巨大需求。

　　与此同时，国内领先晶圆代工厂商也开始测试中国本土制造的深紫外(DUV)光刻设备。这个进展表明，中国并非简单模仿，而是在全球供应链断裂与技术封锁的背景下，主动构建适合自身需求的“分工体系”。荷兰和日本传统厂商主攻高端制程，而中国则试图在成熟与特色制程中抢占“生存与发展空间”。

　　这种差异化策略有两层意义。第一，是规避高端EUV设备长期垄断可能带来的风险;第二，是在全球对成熟工艺需求未减的情况下，建立一条可持续、独立、成本可控的国产化供应链。这样的“守正并进”方式更稳，也更现实。

　　数据与软件双轮驱动——从硬件制造向生态构建转型

　　传统光刻机研发是一场极端复杂的工程，离不开光学、机械、材料等多学科协同。过去，设备好坏更多靠硬件设计和制造能力决定。现在，中国不少团队开始引入大数据和软件工具。

　　通过部署密集传感器网络，对设备运行时的温度、振动、光学参数进行实时采集，构建数字孪生模型。这些模型用于仿真、优化和调校，能够显著缩短设备调试周期，同时提高良率、降低维护成本。对于一家设备商来说，这意味着在“软实力”方面也具备较高掌控力。

　　更重要的是，软件系统也在加速本土化。一些国产光刻设备声称，其底层驱动和工艺管理软件实现了自主开发。即使外部供应链被切断，也能维持设备运行。这种软硬结合的方式，为光刻机产业构建出更强的“韧性”和“抗打压能力”。

　　这种模式与传统仅靠硬件突破的路径不同。它更贴近中国当下的产业环境。它放弃“一夜登顶”的幻想，而是稳扎稳打，先把“能用”“能稳定”“能维护”做好。

　　巨大的鸿沟仍在——不能掉以轻心

　　尽管进展值得肯定，但仍有现实问题不容忽视。全球光刻机市场目前呈现“一超多强”的格局。ASML掌控EUV高端市场。其他像日本的Nikon和Canon，主攻DUV和特色工艺领域。但这一体系背后的核心光源、核心光学、光刻胶、软件生态等环节，都与美国及荷兰、日本等国的技术高度绑定。

　　近日有报道指出，面对美国对光刻胶出口的限制，日本方面甚至可能断供给部分中国厂商。这意味着，即便中国设备构建成功，仍可能面临上游材料、关键组件被扼制。更何况，构成完整光刻机体系的不只是单台设备，还包括配套的光源、光刻胶、软件、检测工具等多个组件。要想真正实现“全产业链国产化”，还需要时间和持续投入，但前景是光明的，比如光刻胶，国内企业已经取得了突破，国产化替代指日可待。

　　另外，虽然国内有厂商开始测试自主DUV设备，但这还只是“试水”阶段。距离量产、稳定交付还有距离。若以为某一款设备投入使用，就可以说“中国已能独立造光刻机”，确实有些过于乐观，但不必悲观，既然已经开了头，以中国速度，后面的爆发力是相当惊人的。

　　市场大环境与战略潜力——这是一次长期博弈

　　尽管面临挑战，当前环境对中国光刻机产业而言，或许是前所未有的机遇。全球半导体产业正在经历供需再分配。人工智能、物联网、汽车电子、新能源应用等领域，对功率器件、功率半导体、化合物半导体的需求快速上涨。这类需求对先进制程要求不高，但对稳定性、成本和兼容性要求高。正是中国自主设备能够发挥优势的“刚需市场”。

　　此外，中国若能在成熟制程和特色制程领域站稳脚跟，就能积累宝贵的经验与技术储备。这为将来挑战更高端制程打下基础。相较于盲目追求顶峰设备，不如先把脚下的基础打牢。

　　与此同时，这也是一场全球话语权的重塑。不只是设备制造。更是关于谁来定义全球芯片产业标准，谁能拥有供应链主导权的竞争。若中国能够自主构建起较为完整的光刻机生态，那么荷兰、日本乃至美国主导的产业体系将不再牢不可破。

部分素材来源：每日经济新闻、金融界、陕西法制网、东方财富网