首页科技快讯光刻机+光刻胶+算力，5家核心公司！

光刻机+光刻胶+算力，5家核心公司！

来源：晰数塔互联网快讯时间：2025年03月30日 18:23

兄弟们，你们知道么！

半导体都出到第三代了！而且上个月已经在太空完成了功率器件验证。新一代半导体具备宽禁带、高电子迁移率、高击穿电场的特点。

简单来说，就是它能有：

更高的工作频率：具备更好的电子迁移速度和开关速度，和通信、雷达等非常适配。

更强的功率处理能力：能承受更高的电场强度和流量密度，并且能量损耗更低。

更好的高温稳定性：工作温度范围可到200℃以上，一些高温发动机的电子控制系统就能用。

更牛的抗辐射能力：新一代半导体所用材料都具备较好的抗辐性能。

更优的光电性能：能实现更高的发光效率和更低的能耗。

想要发展第三代半导体，好的光刻机和光刻胶是核心，本期我们梳理了5家在这块领域的核心公司。期待与各位交流更多心得，欢迎关注我们的公众号。

作者声明：以下内容仅供行业交流，不作任何其他建议。

第一家：芯碁微装

细分领域：泛半导体、光伏、PCB领域等

技术优势：国内直写光刻设备核心企业，其MLF系列直写光刻设备，配备先进的设备前端模块，可以支持12英寸晶圆全自动作业，适用于第三代半导体碳化硅工艺应用。

第二家：强力新材

细分领域：光刻胶电子化学品、半导体先进封装

技术优势：产品和技术覆盖目前市场主要光刻胶种类中的关键原材料，是全球PCB光刻胶的主要供应方。在LCD光刻胶方面，公司打破了跨国企业对高感光度引发剂市场的垄断。

第三家：晶方科技

细分领域：芯片封装、光学器件等

技术优势：公司主要是做半导体封装测试，其荷兰子公司Anteryon为全球光刻机大型企业ASML等提供支持，部分产品用于光刻机关键部件。

第四家：****

细分领域：MO源、电子特气、光刻胶等

技术优势：是国内第一个研制出国产ArF光刻胶的企业，其子公司能够研制功能单体、功能树脂等核心材料，实现从光刻胶原材料，到成品及配套的全自主化。

第五家：****

细分领域：光刻胶、锂电池材料等

技术优势：老牌光刻胶公司，国内半导体光刻胶的先驱。其子公司的光刻胶产品，涵盖紫外负型光刻胶、宽谱正胶及部分g线、i线光刻胶等高阶产品。

近年来，EUV光刻胶的研发突破，3纳米EUV光刻机的问世，标志着半导体制造工艺已经进入了一个新时代，为第三代半导体提供了更有效率、更稳定的生产支持。随着光刻胶、光刻机相关领域技术迎来更多新突破，第三代半导体的发展进程还会更快。

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发布于：江西