璞璘交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻机，支持＜10nm 线宽

（来源：IT之家）

IT之家 8 月 5 日消息，璞璘科技 PRINANO 今日宣布其在 8 月 1 日成功向一家国内特色工艺客户交付其自主研发的中国首台半导体级步进式纳米压印光刻 (NIL) 系统 PL-SR。

璞璘在 PL-SR 系列设备上成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈，实现了纳米级的压印膜厚，达到了平均残余层＜10nm、残余层变化＜2nm、压印结构深宽比＞7:1 的技术指标，可对应线宽＜10nm 的 NIL 工艺。

璞璘科技表示其 PL-SR 系列喷墨步进式纳米压印设备目前已经初步完成存储芯片、硅基 (oS) 微显示器、硅光 (SiPh) 及先进封装 (AVP) 等芯片研发验证；其最小可实现 20mm×20mm 压印模板均匀拼接，最终可实现 12 英寸晶圆级超大模板。

相关推荐

首台纳米压印光刻机，佳能出货了
佳能首台纳米压印设备正式出货！
佳能的NIL光刻机，能超越ASML的EUV？
ASML、尼康同时官宣新设备，光刻机市场火药味渐浓？
纳米压印设备可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：无法卖到中国！
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国！
光刻机三巨头的殊途同归
日本公司“超车”ASML光刻机？华为、中芯早已投出一家隐形冠军
2亿一台嫌贵？佳能说我这十分之一！光刻机价格战要来了？
2024，中国芯片想要突破卡脖子，还需要什么？

网址: 璞璘交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻机，支持＜10nm 线宽 http://www.xishuta.com/newsview139944.html