佳能纳米压印破局，EUV垄断时代落幕？

全球半导体领域竞争态势再度出现显著变化，荷兰 ASML 公司所拥有EUV 光刻机在市场上不再占据绝对垄断位，日本佳能公司成功实现了纳米压印技术在 5nm 芯片生产中量产应用，并且将目标直接锁定于 2nm 制程，从而引发了一场技术层面突破与变化。

EUV 光刻机造价极为高昂，超过了 10 亿元人民币，其运行过程中能耗水平相当于一个小型城镇能耗规模，同时还受到出口管制措施严格限制，而纳米压印技术则类似于使用印章来按压图案，通过这种方式跳过了复杂光学系统，其成本仅仅为 EUV 光刻机成本十分之一。

该项技术并不依赖于美国相关技术，由此可见出口限制对其产生影响相对较小，这使众多中小芯片企业也能够涉足先进制程领域，但是纳米压印技术需要使用高精度模板，如何控制模板使用寿命以及缺陷率，仍然是亟待解决难题。

从行业发展角度来看，纳米压印技术崛起打破了原有技术垄断局面，使芯片制造技术路径更加多元化，这种竞争并非是零和博弈模式，它能够推动整个芯片制造行业加速创新，进而避免在技术层面遭遇被他国“卡脖子”困境。

目前，ASML 公司正在加速推进更高数值孔径光刻机研发工作，台积电英特尔等企业也在多条技术路线上进行布局，这场激烈技术竞争不仅仅关乎各个企业自身利益失，更对全球科技生态系统以及各个国家安全保障产生着深远影响。

发布于：广东

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